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以濕式洗滌法去除發光二極體產業含氨廢氣之效率探討

為了解決Kanken 新竹的問題，作者費國偉 這樣論述：

由於半導體產業之產品的多樣化，以及製程的的改變，造成原物料使用上，也產生許多變化。其中半導體之發光二極體(簡稱LED)製造，因產品製程的需求，而大量使用之原料氣體－NH3，造成廢氣具有高濃度的特性。其廢氣中NH3排放濃度達數萬ppm，甚至高達十幾萬ppm，以往酸鹼共排之處理防制設備及操作方式已無法有效去除污染物。因此，本研究對象以某製造發光二極體之實廠，所排放含氨廢氣處理防制設備之處理效率作為探討。目前處理設備是以雙塔串聯之填充式濕式洗滌塔來處理含氨廢氣。經本次實驗後，不僅排放濃度可低於法規排放標準之35 mg/m3，更可每月節省17.1%的處理成本，其最佳之處理操作參數如下：控制洗滌液之p

H6.0~6.5，可有效去除污染物並降低硫酸藥劑的使用；提高洗滌液之溢流率，降低洗滌液電導度，並維持於40~50 mS/cm；增加其液氣比以有效提高去除效率。 雖然以雙塔串聯之填充式濕式洗滌塔去除含氨廢氣效果頗佳，但其廢氣中含氨濃度極高，如能有效回收處理再利用，不僅可降低空污防制設備的運作成本，也可減少因濕式洗滌塔所產生之廢水，而流入至廢水處理設施所造成廢水處理的負擔；更可經由回收處理再利用，增加額外的收益，此乃值得持續研究之方向。